中國專利與商標雜志屬于政法類期刊， 目前刊期為季刊。

中國專利與商標雜志于1985年正式創刊， 是一本由中國專利與商標雜志社主辦的學術刊物。

雜志文章要求：

①內容摘要與作者單位全稱間空2-3行，要求摘要內容青簡意賅，嚴謹活潑，體現全文主題思想之精髓，不是文中某段落某句話的重復摘錄。

②論文所涉及的課題若取得國家或部、省級、校級以上基金資助或屬攻關項目，請務必注明基金編號。

③基本要求:文獻引用和說明性注釋均采用當頁腳注形式。腳注序號用①,②,③……標識,每頁單獨排序。

④靜態圖:圖或照片應另附于文后,分別按其在正文中出現的先后次序連續編碼。圖題和圖說明應簡潔明確,具有自明性。

⑤來稿應含以下部分：中英文題名、中英文摘要、中英文關鍵詞、中圖分類號、正文以及必要的圖表、參考文獻。

中國專利與商標雜志收錄與榮譽

維普收錄(中)

國家圖書館館藏

上海圖書館館藏

暫無雜志榮譽數據