真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào)B(Journal Of Vacuum Science & Technology B)是一本由A V S AMER INST PHYSICS出版的一本工程技術(shù)-工程：電子與電氣學(xué)術(shù)刊物，主要報(bào)道工程技術(shù)-工程：電子與電氣相關(guān)領(lǐng)域研究成果與實(shí)踐。本刊已入選來源期刊，該刊創(chuàng)刊于1991年，出版周期Bimonthly。2021-2022年最新版WOS分區(qū)等級：Q3，2023年發(fā)布的影響因子為1.5，本刊非開放獲取期刊。
《真空科學(xué)與技術(shù)雜志 B》側(cè)重于微米和納米結(jié)構(gòu)及設(shè)備相關(guān)的加工、測量和現(xiàn)象。加工可能包括真空加工、等離子加工和微光刻等，而測量則涉及各種材料和設(shè)備表征方法，用于了解亞微米和納米結(jié)構(gòu)及設(shè)備的物理和化學(xué)性質(zhì)。
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
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中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果。在中科院期刊分區(qū)表中，主要參考3年平均IF作為學(xué)術(shù)影響力，最終每個分區(qū)的期刊累積學(xué)術(shù)影響力是相同的，各區(qū)的期刊數(shù)量由高到底呈金字塔式分布。
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 252 / 352 |
28.6%
|
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 115 / 140 |
18.2%
|
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 134 / 179 |
25.4%
|
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 278 / 354 |
21.61%
|
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 115 / 140 |
18.21%
|
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 145 / 179 |
19.27%
|
湯森路透每年出版一本《期刊引用報(bào)告》（Journal Citation Reports，簡稱JCR）。JCR對86000多種SCI期刊的影響因子（Impact Factor）等指數(shù)加以統(tǒng)計(jì)。JCR將收錄期刊分為176個不同學(xué)科類別在JCR的Journal Ranking中，主要參考當(dāng)年IF，最終每個分區(qū)的期刊數(shù)量是均分的。
暫無Cite Score數(shù)據(jù)
| 文章名稱 | 引用次數(shù) |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
中科院分區(qū) 2區(qū) JCR分區(qū) Q1
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中科院分區(qū) 1區(qū) JCR分區(qū) Q1
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中科院分區(qū) 4區(qū) JCR分區(qū) Q3
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中科院分區(qū) 1區(qū) JCR分區(qū) Q1
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中科院分區(qū) 1區(qū) JCR分區(qū) Q1
查看詳情若用戶需要出版服務(wù)，請聯(lián)系出版商：A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502。