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Plasma Science and Technology雜志

Plasma Science and Technology雜志 CSCD期刊SCI期刊

預計1-3個月 下單時間

0.3 影響因子

科技 快捷分類

2497 發文量

2514 總被引次數

11 H指數

中國科學院;中國科協

1999

等離子體科學與技術(英文版);等離子體(英);Plasma Science & Technology

中國科學院合肥物質科學研...

基礎科學綜合

1009-0630

月刊

230031

34-1187/TL

英語

萬元熙、謝紀康

預計1-3個月

200

投稿咨詢 加急見刊

Plasma Science and Technology雜志簡介

《Plasma Science and Technology》創刊于1999年,是由中國科學院等離子體物理研究所主辦的英文版學術期刊。

《Plasma Science and Technology》宗旨:主要報導國內外科學家就等離子體各個領域在基礎研究、實驗探索、裝置建設和應用開發中所取得的具有新意的學術成果或階段性成果,并刊登反映這些學科在國內外發展新方向、新動態的綜述,以及與等離子體有關的交叉學科和應用方面的最新成就等。

Plasma Science and Technology發文方向

專題論述理論研究裝置建設工藝裝備實驗結果技術應用綜合評述科技動態

Plasma Science and Technology雜志特色

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Title. The title should be simple, concise and informative.

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雜志收錄與榮譽

CSCD 中國科學引文數據庫來源期刊(含擴展版)
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Plasma Science and Technology雜志數據統計注:由于版面限制,此處僅列出部分數據信息,了解詳情請聯系客服 了解詳情 >>

年度期刊評價報告 (本刊綜合數據對比及走勢)
名詞解釋:

影響因子:指該期刊近兩年文獻的平均被引用率,即該期刊前兩年論文在評價當年每篇論文被引用的平均次數

被引半衰期:衡量期刊老化速度快慢的一種指標,指某一期刊論文在某年被引用的全部次數中,較新的一半被引論文刊載的時間跨度

期刊他引率:他引率是指,此期刊被引用次數中,被其他刊引用次數所占的比例

引用半衰期:指某種期刊在某年中所引用的全部參考文獻中較新的一半是在最近多少年時段內刊載的

平均引文率:在給定的時間內,期刊篇均參考文獻量,用以測度期刊的平均引文水平,考察期刊吸收信息的能力以及科學交流程度的高低

雜志被引半衰期、引用半衰期

雜志影響因子、被引次數

雜志發文量、期刊他引率

雜志平均引文率

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